1200℃双温区CVD系统-骨灰晶钻制作设备厂家

1200℃双温区CVD系统

  • 名称:1200℃双温区CVD系统
  • 类型:高温管式炉
  • 规格:TF80-12II-3CVD
  • 温度:双温区CVD系统℃

咨询热线:132-3399-7675

产品详细

产品用途:
STR-TF80-12II-3双温区CVD系统生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
CVD系统统配置:
1、1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区)。
2、多路质量流量控制系统
3、真空系统(可选配中真空或高真空)     

电炉特点:

1 、控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。
2 、气路快速连接法兰结构采用本公司有的知识产权技术设计,提高操作便捷性。
3、 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵
 4、防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。

主要技术参数:

设备名称

1200℃双温区CVD系统

系统型号

 TF80-12II-3

TF80-12II6-3

极限温度

1200℃

加热区长度

420mm

600mm

恒温区长度

280mm

390mm

温区

双温区

双温区

石英管管径

Φ50/Φ60/Φ80mm

Φ80/Φ100mm

额定功率

3.2Kw

4.8Kw

额定电压

220V

温度控制

国产程序控温系统50段程序控温;

控制精度

±1℃

炉管工作温度

<1200℃

气路法兰

密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封,在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效,该密封法兰的安装只需在初次使用设备的时候安装

气体控制方式

质量流量计

气路数量

3路(可根据具体需要选配气路数量)

流量范围

0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定

精度

±1%F.S

响应时间

≤4sec

工作温度

5-45℃

工作压力

进气压力0.05-0.3Mpa(表压力)

系统连接方式

采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪

规格

高真空

系统真空范围

1x10-3Pa-1x10-1Pa

真空泵

真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1200L/S额定电压220V    功率2KW

真空分子泵理论极限真空度5x10-6Pa抽气速度1600L/S额定电压220V  功率2KW

炉体外形尺寸

340×580×555mm

480×770×605mm

系统外形尺寸

530x1440x750mm(不含高真空)

系统总重量

330kg


本页网址: http://www.jingzuanlu.com/dianlu/169.html
本页标题:1200℃双温区CVD系统

重要提示

国内双温区CVD系统度高温管式炉 的厂家骨灰晶石制作设备-骨灰加工晶石的设备生产厂家专业生产CVD,双温区、高温管式炉 、TF80-12II-3双温区CVD系统。高温管式炉价格公道、质量可靠。

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高温管式炉 代理商
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什么电炉可以加热到双温区CVD系统℃?
2024-12-27 01:00:00 来自APP

2024-12-28 00:00:00客服回复 :

骨灰晶石制作设备-骨灰加工晶石的设备生产厂家生产的双温区CVD系统℃高温管式炉设计温度为双温区CVD系统℃,该TF80-12II-3双温区CVD系统可以加热到双温区CVD系统℃。

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高温管式炉
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2019-04-30 来自APP

2021-05-19 13:43:11 客服回复 :

骨灰晶石制作设备-骨灰加工晶石的设备生产厂家生产的双温区CVD系统℃高温管式炉质量可靠,售后贴心服务更是让人满意。该高温设备操作简便。运行稳定

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