产品详情

电炉介绍：

PECVD系统由管式炉，真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能，PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等点。

PECVD系统主要特点：

1.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
2.通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
3.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
4.可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
5.广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

设备主要技术参数：

电炉名称	高真空PECVD设备(CE认证)
滑轨管式炉部分
电炉型号	STR-TF1200-S5030-H
炉管尺寸	Φ50mmX1600mm
炉管材质	石英管
加热区	300mm
工作温度	1100℃
设计温度	1200℃
温控方式	K型热电偶
控制方式	触屏控制，带立摇臂，可以根据实际使用需求，调节温控屏的角度，使用更方便
控温精度	±1℃
温控保护	具有超温和断偶保护功能
升温速率	0-20ºC/min ，建议10ºC/min
加热元件	含钼电阻丝
工作电压	AC220V单相50HZ（电路电压用户可选择定制）
加热功率	3KW
炉膛材料	氧化铝多晶纤维
炉体结构	炉体带滑轨，可实现快速升温和降温
法兰接头	标配配有两个不锈钢真空法兰，已安装机械压力表和不锈钢截止阀
密封系统	该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好。
壳体	不锈钢壳体
选配	辅助降温风扇
真空系统部分
名称	真空系统
主要参数	1.采用进口安捷伦高真空分子泵组，极限真空度可达10-3pa 2.KF25快接，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰，真空泵相连； 3.数字式真空显示，其测量范围为5×10-5- 1500mbar，测量精度高高
气路系统部分
名称	四路质量流量计
主要参数	四通道精密质量流量计：触屏控制，数字显示，自动控制。流量范围流量范围： 1.MFC 1-MFC4：0-1000sccm可调 2.一个混气罐 3.4个不锈钢针阀安装在供气系统的左侧，可手动控制4种气体； 4.进出气口：3进1出 流量控制：手动旋转式调节 连接方式：双卡套连接
等离子电源部分
名称	500W等离子电源
功率范围	0-500W（连续可调）
工作频率	13.56MHZ+0.005%
工作模式	连续输出
射频输出阻抗接口	N-type,female（50Ω）
功率稳定度	≤2W
设计大反射功率	70W
电源保护设置	YZ过流保护，功放过温保护，反射功率保护
供电电压/频率	单相交流（187V-253V）50-60HZ
冷却方式	风冷
整机尺寸	88X483X550 MM
整机重量	13.5KG
认证	ISO认证、CE认证
售后服务	质保一年，终身保修（耗材类：高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围）

 

 

TAG:高真空PECVD设备 
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