单温区CVD系统
CVD系统应用：
CVD是化学气相沉积的英文简写，该CVD系统是利用管式炉加热，把构成固态沉积物的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入炉管内，在炉管内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。
CVD系统分类：
CVD技术常常通过反应类型或者压力来分类，包括低压CVD(LPCVD)，常压CVD(APCVD)，亚常压CVD(SACVD)，超高真空CVD(UHCVD)，等离子体增强CVD(PECVD)，高密度等离子体CVD(HDPCVD)以及快热CVD(RTCVD)。然后，还有金属有机物CVD(MOCVD)，根据金属源的自特性来保证它的分类，这些金属的典型状态是液态，在导入炉膛容器之前必须先将它气化。
CVD系统组成：
CVD系统是由小型管式炉+真空抽气系统+多路供气系统（或者液态蒸发系统）组成
电炉名称：CVD-VK单温区CVD系统
产品型号：
CVD-12VK 单温区CVD系统
CVD-14VK单温区CVD系统
CVD-17VK单温区CVD系统
CVD-V12VK 立式单温区CVD系统
CVD-V14VK立式单温区CVD系统
CVD-V17VK立式单温区CVD系统
CVD系统应用：
CVD是化学气相沉积的英文简写，该CVD系统是利用高温管式炉加热，把构成固态沉积物的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入炉管内，在炉管内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。
CVD系统分类：
CVD技术常常通过反应类型或者压力来分类，包括低压CVD(LPCVD)，常压CVD(APCVD)，亚常压CVD(SACVD)，超高真空CVD(UHCVD)，等离子体增强CVD(PECVD)，高密度等离子体CVD(HDPCVD)以及快热CVD(RTCVD)。然后，还有金属有机物CVD(MOCVD)，根据金属源的自特性来保证它的分类，这些金属的典型状态是液态，在导入炉膛容器之前必须先将它气化。
CVD系统组成：
CVD系统=管式炉+真空抽气系统+多路供气系统（或者液态蒸发系统）
单温区CVD系统配置选择：配置一：管式真空气氛炉：
SGM-SK2-12 管式真空气氛炉，1200℃，管径：50—200mm
SGM-SK2-14 管式真空气氛炉，1400℃，管径：50—100mm
SGM-SK2-15 管式真空气氛炉，1500℃，管径：50—100mm
SGM-SK2-16 管式真空气氛炉，1600℃，管径：50—100mm
SGM-SK2-17 管式真空气氛炉，1700℃，管径：50—100mm
SGM-SK2-18 管式真空气氛炉，1800℃，管径：50—100mm
SGM-VSK2-12 立式管式真空气氛炉，1200℃，管径：50—200mm
SGM-VSK2-15 立式管式真空气氛炉，1500℃，管径：50—100mm
SGM-VSK2-17 立式管式真空气氛炉，1700℃，管径：50—100mm
LVSE-0.1低真空控制系统应用范围：
该系统为一组低真空机组设备，控制设备真空度小于1Pa一下；配合真空高温管式炉、箱式气氛炉等真空设备使用
设备组成：设备由真空法兰、高真空挡板阀、电阻真空计、真空波纹管、支架、真空泵组成
技术参数：
1、真空泵：FX-16
2、真空泵抽气速度：16m³/h（4L/s）
3、真空泵极限压强：（Pa）≤4*10-2
4、高真空挡板阀：KF25不锈钢高真空挡板阀
5、真空波纹管：KF25*1000mm
6、真空计VRD-I:规管型号ZJ-53B/ZJ-54D短丝热偶规
7、电源设计功率：220v/50Hz；0.8kw
8、出气进气口规格：KF25
9、连接口：2个KF25接口
LVSE-0.1A可调低真空控制系统
应用范围：该系统为一组低真空恒压机组设备，控制设备真空压力恒定在1、0KPa—100.0KPa之间；配合真空高温管式炉、箱式气氛炉等真空设备使用
设备组成：设备由真空法兰、高真空挡板阀、电阻真空计、真空波纹管、支架、真空泵、变速器、电动调节阀门等组成；
技术参数：
1、 真空泵：FX-16
2、 真空泵抽气速度：16m³/h（4L/s）
3、 真空泵极限压强：（Pa）≤4*10-2
4、 高真空挡板阀：KF25不锈钢高真空挡板阀
5、 真空波纹管：KF25*1000mm
6、 真空计：VRD-I:
7、 规管型号ZJ-53B/ZJ-54D短丝热偶规
8、 电源设计功率：220v/50Hz；0.8kw
9、 调速变频器：0.75kw
10、 压强控制范围：1、0KPa—100KPa
11、 压强控制精度：±1KPa
12、 出气进气口规格：KF25
13、 连接口：2个KF25接口
HVSE高真空控制系统:
应用范围：该系统为一组复合分子泵、前级抽气泵机组设备，控制设备真空度小于8*10-4Pa；配合真空高温管式炉、箱式气氛炉等高真空设备使用；广泛应用于表面分析、半导体设备、等离子体技术、电真空器件的制造及真空技术研究
设备组成：设备由复合分子泵、前级抽气泵、隔断放气阀、前级管路、分子泵电源、高真空检测系统（复合真空计）、控制电源组成
结构特点：
预抽气旁路设计，前级抽气不经过分子泵避免预抽气体中颗粒进入分子泵
技术参数：
1、前级真空泵：TRP-24
2、真空泵抽气速度：4L/s
3、分子泵：FJ-620
4、抽气速率：600L/s
5、分子泵极限压强：6*10-6Pa
6、建议启动压强：＜100Pa
7、排气口法兰：KF40
8、进气口法兰：DN160LF
9、波纹管：KF40*1000mm
10、复合真空计：ZDF-III
11、真空电磁挡板阀：KF40
12、真空腔体真空度：＜8*10-4Pa
13、工作电压：220v/50Hz
配置三：多路供气系统：
ZDS-X多路质子流量计控制供气系统
系统应用： ZDS-X多路质子流量计控制供气系统是实现多种气体不同流量混合配比的供气系统
设备组成：多路进气管路、质子流量计、混气罐、出气管路组成
结构特点：
1、 几路进气客户自由定制，标准接口，方便连接
2、 触摸屏控制输入每路气体流量，实时查看各路气体流量曲线
3、 每条气路均设置高压截止阀，方便切断气路
技术参数：
1、 气体通路：X条客户自由定制
2、 气体类型：客户自由选择
3、 流量计量程：5—500SCCM；1—10SLM自由选择
4、 工作电压：220v/50Hz
5、 工作压差：0.1-0.5MPa
6、 最大压力：3MPa
7、 准确度：±1、0%F.S
8、 质子流量计相应时间：＜1S
9、 测量范围：0.1-0.15MPa
10、 混气罐：304不锈钢
11、 进出气接口：直径6mm不锈钢卡套接口
12、 管道：内部管道采用直径6mm不锈钢管；外部管采用6mm聚四氟管
13、 控制系统：PLC控制系统，触摸屏输入，每路气路独立控制
FDS-X多路浮子流量计控制供气系统
系统应用： FDS-X多路浮子流量计控制供气系统是实现多种气体不同流量混合配比的供气系统
设备组成：多路进气管路、浮子流量计、混气罐、出气管路组成
结构特点：
1、 几路进气客户自由定制，标准接口，方便连接
2、 手动调节浮子流量计，方便快接
3、 每条气路均设置高压截止阀，方便切断气路
技术参数：
1、 气体通路：X条客户自由定制
2、 气体类型：客户自由选择
3、 流量计量程：10-100ml/min；25-250ml/min；50-500ml/min自由选择
4、 压力表：-0.1MPa：0.15MPa，0.01MPa/格
5、 混气罐：304不锈钢
6、 进出气接口：直径6mm
7、 管道：内部管道采用直径6mm不锈钢管
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