小型单温区管式PECVD系统-小型单温区管式PECVD系统-骨灰晶石制作设备-骨灰加工晶石的设备生产厂家

小型单温区管式PECVD系统

PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很炉膛容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).


PECVD系统的中文名是等离子增强化学气相沉积系统。是在CVD的基础上加一个射频电源,这个射频电源通过感应线圈使管式炉炉管内气体形成等离子体,等离子体化学活性很强,很炉膛容易发生反应,从而在基片上沉积出所期望的固态沉积物。PECVD具有比普通CVD沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高、沉积所需的温度低等优点。PECVD是由CVD系统再加一个PE500射频电源、线圈组成


电炉名称:单温区PECVD系统

产品型号:

PECVD-12VK 单温区PECVD系统

VPECVD-12VK立式单温区PECVD系统

RPECVD-12VK转管式单温区PECVD系统

PECVD系统应用:

PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很炉膛容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

PECVD系统的中文名是等离子增强化学气相沉积系统。是在CVD的基础上加一个射频电源,这个射频电源通过感应线圈使高温管式炉炉管内气体形成等离子体,等离子体化学活性很强,很炉膛容易发生反应,从而在基片上沉积出所期望的固态沉积物。PECVD具有比普通CVD沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高、沉积所需的温度低等优点。PECVD是由CVD系统再加一个PE500射频电源、线圈组成


PECVD系统组成:


小型PECVD系统是由等离子电源+1200度单温区管式炉+真空抽气系统+多路供气系统(或者液态蒸发系统)



单温区PECVD系统配置选择:配置一:管式真空气氛炉:

SGM-SK2-12 管式真空气氛炉,1200℃,管径:50、60、80、100、150mm

SGM-VSK2-12 立式管式真空气氛炉,1200℃,管径:60、80、100mm

SGM-RTF-12 转管式真空管式气氛炉,1200℃,管径:60mm



配置二:真空抽气系统: 可以选配:LVSE-0.1;LVSE-0.1A;HVSE

LVSE-0.1低真空控制系统应用范围:

该系统为一组低真空机组设备,控制设备真空度小于1Pa一下;配合真空高温管式炉、箱式气氛炉等真空设备使用

设备组成:设备由真空法兰、高真空挡板阀、电阻真空计、真空波纹管、支架、真空泵组成

技术参数:

1、真空泵:FX-16

2、真空泵抽气速度:16m³/h(4L/s)

3、真空泵极限压强:(Pa)≤4*10-2

4、高真空挡板阀:KF25不锈钢高真空挡板阀

5、真空波纹管:KF25*1000mm

6、真空计VRD-I:规管型号ZJ-53B/ZJ-54D短丝热偶规

7、电源设计功率:220v/50Hz;0.8kw

8、出气进气口规格:KF25

9、连接口:2个KF25接口



LVSE-0.1A可调低真空控制系统

应用范围:该系统为一组低真空恒压机组设备,控制设备真空压力恒定在1、0KPa—100.0KPa之间;配合真空高温管式炉、箱式气氛炉等真空设备使用

设备组成:设备由真空法兰、高真空挡板阀、电阻真空计、真空波纹管、支架、真空泵、变速器、电动调节阀门等组成;

技术参数:

1、 真空泵:FX-16

2、 真空泵抽气速度:16m³/h(4L/s)

3、 真空泵极限压强:(Pa)≤4*10-2

4、 高真空挡板阀:KF25不锈钢高真空挡板阀

5、 真空波纹管:KF25*1000mm

6、 真空计:VRD-I:

7、 规管型号ZJ-53B/ZJ-54D短丝热偶规

8、 电源设计功率:220v/50Hz;0.8kw

9、 调速变频器:0.75kw

10、 压强控制范围:1、0KPa—100KPa

11、 压强控制精度:±1KPa

12、 出气进气口规格:KF25

13、 连接口:2个KF25接口



HVSE高真空控制系统:

应用范围:该系统为一组复合分子泵、前级抽气泵机组设备,控制设备真空度小于8*10-4Pa;配合真空高温管式炉、箱式气氛炉等高真空设备使用;广泛应用于表面分析、半导体设备、等离子体技术、电真空器件的制造及真空技术研究

设备组成:设备由复合分子泵、前级抽气泵、隔断放气阀、前级管路、分子泵电源、高真空检测系统(复合真空计)、控制电源组成

结构特点:

预抽气旁路设计,前级抽气不经过分子泵避免预抽气体中颗粒进入分子泵

技术参数:

1、前级真空泵:TRP-24

2、真空泵抽气速度:4L/s

3、分子泵:FJ-620

4、抽气速率:600L/s

5、分子泵极限压强:6*10-6Pa

6、建议启动压强:<100Pa

7、排气口法兰:KF40

8、进气口法兰:DN160LF

9、波纹管:KF40*1000mm

10、复合真空计:ZDF-III

11、真空电磁挡板阀:KF40

12、真空腔体真空度:<8*10-4Pa

13、工作电压:220v/50Hz



配置三:多路供气系统:

ZDS-X多路质子流量计控制供气系统

系统应用: ZDS-X多路质子流量计控制供气系统是实现多种气体不同流量混合配比的供气系统

设备组成:多路进气管路、质子流量计、混气罐、出气管路组成

结构特点:

1、 几路进气客户自由定制,标准接口,方便连接

2、 触摸屏控制输入每路气体流量,实时查看各路气体流量曲线

3、 每条气路均设置高压截止阀,方便切断气路

技术参数:

1、 气体通路:X条客户自由定制

2、 气体类型:客户自由选择

3、 流量计量程:5—500SCCM;1—10SLM自由选择

4、 工作电压:220v/50Hz

5、 工作压差:0.1-0.5MPa

6、 最大压力:3MPa

7、 准确度:±1、0%F.S

8、 质子流量计相应时间:<1S

9、 测量范围:0.1-0.15MPa

10、 混气罐:304不锈钢

11、 进出气接口:直径6mm不锈钢卡套接口

12、 管道:内部管道采用直径6mm不锈钢管;外部管采用6mm聚四氟管

13、 控制系统:PLC控制系统,触摸屏输入,每路气路独立控制



FDS-X多路浮子流量计控制供气系统

系统应用: FDS-X多路浮子流量计控制供气系统是实现多种气体不同流量混合配比的供气系统

设备组成:多路进气管路、浮子流量计、混气罐、出气管路组成

结构特点:

1、 几路进气客户自由定制,标准接口,方便连接

2、 手动调节浮子流量计,方便快接

3、 每条气路均设置高压截止阀,方便切断气路

技术参数:

1、 气体通路:X条客户自由定制

2、 气体类型:客户自由选择

3、 流量计量程:10-100ml/min;25-250ml/min;50-500ml/min自由选择

4、 压力表:-0.1MPa:0.15MPa,0.01MPa/格

5、 混气罐:304不锈钢

6、 进出气接口:直径6mm

7、 管道:内部管道采用直径6mm不锈钢管


配置四:等离子电源

1、型号:PE-500

2、噪音:<50dB

3、冷却:风冷

4、最大反向设计功率:200W

5、电源:208-240VAC,50/60Hz

6、输出设计功率:5-300W 可调稳定性±1%

7、射频电源频率:13、56MHz ±0.005%

8、射频电源电子输出端口:50Ω,N型半导体,阴极

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