预加热小型滑膛式管式PECVD

预加热小型滑膛式管式PECVD介绍

预加热小型滑膛式管式PECVD是一种用于实现化学气相沉积（PECVD）的装置。PECVD是一种通过在低压下将气体引入反应室中，在表面上生成薄膜的技术。

本设备主要由预加热炉、管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。

其中，反应室是设备的核心部件，由高温材料制成，具有很好的耐高温性能和稳定的机械性能。加热器则用于对反应室进行预加热，以促进化学反应的进行。真空泵用于排除反应室内的氧气和其它杂质气体，以创造纯净的反应环境。气体进口系统则用于引入不同的气体供给，在反应过程中实现沉积层的控制和调节。

预加热小型滑膛式管式PECVD具有结构简单、体积小、操作方便等优点，在微电子、光学、太阳能电池等领域得到了广泛应用。

1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。

3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。

4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx,SiNx,SiOxNy和无定型硅(a-Si:H)等。